[صفحه اصلی ]   [ English ]  
بخش‌های اصلی
صفحه اصلی::
مدیریت دانشکده::
درباره دانشکده ::
معرفی افراد::
گروه فیزیک حالت جامد::
گروه فیزیک اتمی-مولکولی::
امور آموزش::
امور پژوهش::
آزمایشگاه‌های تحقیقاتی::
اخبار و رویدادها::
تسهیلات پایگاه::
::
سخنرانی های 96

AWT IMAGE

..
اطلاعیه سقف نمره ی دکتری

..
نظرسنجی
سایت دانشکده فیزیک را چگونه ارزیابی می کنید؟
عالی
خوب
متوسط
ضعیف
   
..
جستجو

جستجوی پیشرفته
..
اطلاعات تماس
AWT IMAGE
آدرس: تهران، میدان رسالت،خیابان هنگام، دانشگاه علم و صنعت ایران، دانشکده فیزیک
تلفن دفتر دانشکده : 77240477
شماره نمابر : 77240497
تلفن مستقیم آموزش: 77240179 
آموزش-کارشناسی: 73225856    
تحصیلات تکمیلی: 73225892
پست الکترونیک: physics@iust.ac.ir
..
:: دفاعیه دکتری ::
AWT IMAGEآقای رضا فاضلی دانشجوی دکتری این دانشکده در تاریخ 22/4/90 از پایان نامه خود با عنوان" مطالعه اشعه ایکس تابش شده از پلاسمای لیزری و بررسی افزایش آن با استفاده از اهداف متخلخل " به راهنمایی آقای دکتر محمدحسین مهدیه دفاع نمود.

   چکیده:

در سالهای اخیر استفاده از پلاسماهای لیزری به عنوان منابع بسیار مناسب اشعه ایکس اهمیت و گسترش چشمگیری داشته است. گسترش کاربردها، پیشرفت سیستمهای لیزری و تنوع هدفهای مورد استفاده باعث شد که نیاز به تحقیقات تجربی و نظری در این زمینه افزایش یابد. در تمام کاربردهای اشعه ایکس گسیل شده از پلاسما، دستیابی به شرایطی که منجر به افزایش تابش از پلاسما شود بسیار حائز اهمیت است. در این پایان نامه تابش اشعه ایکس از پلاسمای لیزری به هر دو صورت پیوسته و خط به صورت محاسباتی بررسی شده است. تاثیر پارامترهای مختلف لیزر و هدف از جمله تاثیر استفاده از پیش پالس لیزری، بکارگیری اهداف متخلخل با ضخامتهای نانویی و نیز استفاده همزمان از هر دو روش (پیش پالس و هدف متخلخل) بر میزان تابش ایکس از پلاسما به تفصیل بررسی شده است. هدف متخلخل به صورت یک هدف دولایه شامل یک زیر لایه باضخامتی حدود چندین میکرون که با یک لایه نازک نانویی با چگالی جرمی کمتر از زیرلایه پوشیده شده است شبیه‌سازی شد. نتایج نشان می دهند که در شرایط هدف متخلخل، میزان تخلخل هدف (یا نسبت چگالی لایه نانویی به زیر لایه) مهمترین عامل اثر گذار بر تابش ایکس است. یک مقدار بهینه برای نسبت چگالی وجود دارد که در آن بیشترین مقدار اشعه ایکس تولید می شود. این مطلب در دو محدوده طول موجی 2.3-4.4 ( nm ) و 12.6-14.6 ( nm ) برای تابشهای پیوسته ترمزی و بازترکیب بررسی شد. همچنین هنگامیکه اهداف متخلخل تحت تابش دو پالس لیزری قرار گیرند، تابش اشعه ایکس از آنها می تواند تا حد قابل توجهی افزایش یابد. این در صورتی است که شدت مناسب برای پیش‌پالس و نیز زمان تأخیری مناسب برای تابشدهی انتخاب شود. در هر شرایط مشخص، مقدار بیشینه تابش در یک زمان تأخیری بهینه روی می‌دهد که به ضخامت و درصد تخلخل لایه بستگی دارد. همچنین برای بررسی تغییرات تابش ایکس خط از پلاسما، شدت خطوط طیفی برای سه خط پرشدت در ناحیه فرکانسی 13.3-13.7 ( nm ) محاسبه شد. مشاهده شد که یک مقدار بهینه برای نسبت چگالیهای لایه نازک به زیرلایه وجود دارد که در آن بیشترین مقدار تابش روی می دهد. منحنی افزایش تابش برای شدتها و طول پالسهای مختلف رفتار متفاوتی داشت. استفاده از یک پیش‌پالس لیزری با شدت و زمان تأخیری مناسب نیز می‌تواند باعث افزایش تابش ایکس خط شود. اما استفاده همزمان از پیش‌پالس و هدف متخلخل می‌تواند سبب تضعیف میزان افزایش تابش خط شود. در این شرایط هر قدر تخلخل هدف بیشتر باشد، تضعیف بیشتری روی می­دهد.

  واژه‌های کلیدی: پلاسمای لیزری، تابش ایکس، هدف متخلخل، پیش‌پالس.

 

دفعات مشاهده: 2241 بار   |   دفعات چاپ: 550 بار   |   دفعات ارسال به دیگران: 58 بار   |   0 نظر
سایر مطالب این بخش سایر مطالب این بخش نسخه قابل چاپ نسخه قابل چاپ ارسال به دوستان ارسال به دوستان
Persian site map - English site map - Created in 0.22 seconds with 1030 queries by yektaweb 3535